信越化学工業直江津工場(しんえつかがくこうぎょう なおえつこうじょう)は、新潟県上越市頸城区西福島に所在する信越化学工業の化学工場・研究開発拠点である。1927年(昭和2年)に操業を開始した信越化学工業の発祥工場である。

創業時は水力発電による電力と石灰石を利用してカーバイドや石灰窒素などを生産する電気化学工場として出発した。その後、世界恐慌期の経営難による操業停止と工場の一部の経営委任を経て1937年(昭和12年)に自営操業を再開し、金属・化学製品へ事業を多角化した。第二次世界大戦後は、1950年代後半に塩化ビニルおよび苛性ソーダの生産を開始して有機化学分野へ進出し、1960年代以降はセルロース誘導体、シラン類、合成石英など高機能材料へ事業領域を広げた。

1990年代以降は半導体関連材料の拠点としての性格を強め、1997年(平成9年)には当時最先端であったKrF(フッ化クリプトン)用フォトレジストの生産を開始した。現在は苛性ソーダ、クロロメタン、クロロシラン類、シリコーン製品、セルロース誘導体、合成性フェロモン、合成石英ガラス基板、フォトマスクブランクス、フォトレジスト、5G向け低誘電材料などを生産するとともに、研究開発を行っている。

歴史

設立と操業開始 信越化学工業の前身である信越窒素肥料株式会社は、1926年(大正15年)9月16日、長野県の電力会社であった信濃電気と、日本窒素肥料(後のチッソ)の共同出資によって設立された。設立時の資本金は500万円で、信濃電気側が資本と余剰電力を、日本窒素肥料側が資本、製造設備および技術を提供した。

同社の設立は、信濃電気が長野県内の水力発電所で生み出す電力を利用し、新潟県西部で産出する石灰石からカーバイドや石灰窒素を製造する構想に基づくものであった。信越化学工業は後年、長野県(信濃)の水力と新潟県(越後)の石灰石を結び付けたこの事業構想が「信越」の社名の由来になったとしている。

生産拠点には、新潟県中頸城郡の直江津地区が選ばれた。石灰石の供給源として親不知の原石山が確保され、1927年(昭和2年)春までに石灰炉が完成した。同年、直江津工場が操業を開始し、石灰窒素、カーバイド、黒鉛電極などを生産した。操業開始の月については、社史年表が10月、2020年提出の有価証券報告書が11月としており、資料間に相違があるため、本文では1927年を操業開始年として記述する。

創業当初の直江津工場は、信越窒素肥料にとって唯一かつ中核となる生産拠点であり、会社と工場の歩みは事実上一体のものであった。

経営危機と操業停止 操業開始後の経営は必ずしも順調ではなかった。昭和初期の農村不況や肥料市況の悪化などにより信越窒素肥料の経営は悪化し、1931年(昭和6年)12月、同社は直江津工場の操業を休止した。同時に石灰石を供給していた親不知採石場も操業を休止した。

この時期、会社は経営再建を迫られた。1931年には小坂順造が社長に就任し、日本窒素肥料が保有していた株式の整理などを進めた。

操業を停止した直江津工場では、設備を遊休化させず、その一部の経営を他社に委任した。1932年(昭和7年)4月には日本曹達、同年6月には理研マグネシウム、同年10月には電気化学工業に対して、工場の一部の経営委任が行われた。このため1930年代半ばの直江津工場では、信越窒素肥料による全面的な自営操業ではない状態が続いた。

自営操業の再開と事業多角化 1937年(昭和12年)には他社への経営委任が解除され、直江津工場の自営操業が再開された。この再開は会社の経営再建における転機となった。

再開後は創業時からの石灰窒素やカーバイドに加え、金属マグネシウム、金属マンガン、フェロシリコンなどにも生産分野を拡大した。肥料会社として発足した同社の事業領域は次第に「窒素肥料」の名称に収まらなくなり、1940年(昭和15年)3月、社名を信越化学工業株式会社へ変更した。

戦時期にも直江津工場は同社の主要拠点として操業を続けた。1947年(昭和22年)10月12日には、戦後巡幸中の昭和天皇が直江津工場を訪問している。

総合化学工場への転換 戦後、直江津工場は肥料・電気化学を中心とした工場から、有機化学を含む総合的な化学工場へ転換していった。

塩化ビニルの製造開始年について、信越化学工業の公式沿革は1956年、公式の製品史は1957年、社史年表と2020年提出の有価証券報告書は1957年3月としており、資料間に相違がある。以下では、1950年代後半に直江津工場で塩化ビニルおよび苛性ソーダの製造を開始したと記述する。

社史年表と有価証券報告書によれば、1957年3月には直江津工場に塩化ビニル工場と食塩電解工場が完成し、アセチレン法による塩化ビニルおよび苛性ソーダの製造を開始した。これは、石灰石と電力を基礎とするカーバイド・肥料生産を中心としてきた直江津工場が、有機合成化学へ事業を広げる契機となった。

1959年(昭和34年)には天然ガス塩素化製品の製造を開始し、1960年(昭和35年)には酢酸ビニルモノマーとポリビニルアルコール(ポバール)の生産を開始した。

1962年(昭和37年)にはセルロース誘導体「メトローズ」の製造を開始した。セルロース誘導体はその後、建材、医薬品、食品その他の幅広い用途に用いられる直江津工場の主要製品群の一つとなり、21世紀に入っても同工場で生産が続けられている。

同年には東邦アセチレン、敦井商店などとの共同事業として直江津アセチレンも設立されるなど、工場周辺では関連事業の展開も進んだ。

水銀問題と電解設備 1973年(昭和48年)以降、関川水系および直江津地先海域では、水銀に関する環境調査・監視が行われた。1973年度の全国的な調査では、直江津地先海域で調査された14魚種のうち4魚種が当時の魚介類に係る水銀の暫定的規制値を超え、環境庁は魚介類調査の継続と汚染原因の詳細調査を行うこととした。

新潟県が公表した2016年度の水質測定結果では、保倉川の信越化学工業排水口直下およびその下流地点が、底質の測定地点となっている。

また、直江津工場では1974年(昭和49年)5月に「隔膜法電解工場」の建設を開始し、1975年(昭和50年)9月に完成した。この設備建設は、日本国内で水銀法から非水銀法への製法転換が進められた時期と重なる。関川水系における水銀問題の経緯や調査結果については、関川水系における水銀問題を参照。

高機能材料・電子材料への展開 1970年代以降、直江津工場では従来の基礎化学品や有機化学製品に加え、電子産業や先端産業向けの高機能材料が次第に重要な位置を占めるようになった。

1970年(昭和45年)には直江津工場にトリクロロシラン精製装置が完成した。同時期には直江津地区で信越化学グループによるシリコン関連事業も拡大し、1969年(昭和44年)に設立された直江津電子工業がシリコンウェーハ加工を担うなど、半導体関連産業の集積が形成されていった。

1970年代後半から1980年代にかけては、セルロース誘導体の増強と並行して合成石英関連設備の整備が進んだ。信越化学工業は1979年(昭和54年)にICマスク用合成石英基板の製造を開始し、その後、直江津工場では合成石英の製造設備が相次いで増強された。合成石英基板は、後に同工場の主要分野となる半導体リソグラフィ関連材料の一つとなった。

工場内では研究開発機能の整備も進められた。1980年(昭和55年)には合成技術研究所のパイロットテスト用研究棟が完成し、1980年代には特殊シランなどの試験・生産設備も拡充された。直江津工場は量産工場であると同時に、新規材料を研究・試作し、生産へ移行する拠点としての性格を強めていった。

また、1980年代には合成性フェロモンの事業化も進められた。信越化学工業は1980年に合成性フェロモンを開発し、1985年(昭和60年)には直江津の合成技術研究所で開発された性フェロモン剤「ハマキコン」の出荷を開始した。合成性フェロモンは害虫の交信を攪乱して繁殖を抑える農業資材であり、直江津工場で培われた有機合成技術の応用分野の一つとなった。

半導体露光材料事業 1990年代後半になると、直江津工場は半導体製造工程で使用される露光材料の生産拠点として発展した。

1997年(平成9年)、信越化学工業はフォトレジスト事業を立ち上げ、直江津工場で当時最先端であったKrF用フォトレジストの生産を開始した。同社の簡略な沿革では1998年(平成10年)をフォトレジストの「事業化」年としている。

1998年には直江津工場所在地に信越シリカが設立され、合成石英の製造・加工に加え、後にフォトレジストの評価分析やフォーミュレーション、フォトマスクブランクスの試験検査などを担うようになった。

半導体の微細化に伴い、信越化学工業全体のフォトレジスト事業はKrF用からArF(フッ化アルゴン)用、さらにEUV(極端紫外線リソグラフィ)関連材料へ拡大した。一方、直江津工場では1997年にKrF用フォトレジストの生産を開始し、フォトレジスト、合成石英基板、フォトマスクブランクスなど複数の半導体露光関連材料を扱っている。フォトマスクブランクスについては、信越化学工業が2009年に事業化し、直江津工場で生産を開始したと説明している。

需要拡大に伴い、信越化学工業は直江津以外にも半導体露光材料の生産拠点を展開した。2016年(平成28年)には福井県、2019年(令和元年)には台湾に生産拠点を設けた。2024年(令和6年)には群馬県伊勢崎市に約830億円を投じて第四の生産拠点を建設すると発表した。

伊勢崎の新拠点はフォトレジストなど半導体露光材料の製造と研究開発を目的とするもので、直江津工場で1997年に開始されたフォトレジスト事業が、国内外の複数拠点へ展開した形となっている。

セルロース事業の継続と設備投資 半導体材料への展開が進む一方、1962年に生産を開始したセルロース誘導体も直江津工場の主要事業として継続している。

セルロース誘導体は建材、塗料、医薬品などに用いられ、信越化学工業は医薬用セルロースについても直江津を主要な生産拠点としてきた。2024年には医薬用添加剤「Shin-Etsu AQOAT」の直江津工場における生産能力を倍増するため、約100億円を投資する計画を発表した。

2025年(令和7年)には直江津地区の医薬用セルロース製品倉庫の保管能力を従来の約2倍にするとともに、ドイツの生産拠点にも新設備を設け、生産・供給体制を強化する方針を公表した。

爆発事故 直江津工場では、その長い操業史の中で大規模な爆発・火災事故も発生している。

1973年の爆発事故

1973年(昭和48年)10月28日、直江津工場の塩化ビニルモノマー(VCM)製造設備で大規模な爆発・火災事故が発生した。事故では死者が生じたほか、爆風などによる被害が工場周辺にも及んだ。事故後には通商産業省による調査が行われ、信越化学工業では保安対策本部が設置された。

事故を受け、塩化ビニルモノマー製造設備については再建が中止された。また、信越化学グループは事故から10年後の1983年(昭和58年)、事故発生日である10月28日を「防災の日」と定めた。

2007年の爆発火災事故

2007年(平成19年)3月20日16時25分ごろ、直江津工場のセルロース誘導体製造部門で爆発・火災事故が発生した。17人が負傷し、事故後はセルロース誘導体製造設備などに使用停止命令が出された。

セルロース誘導体の生産・出荷停止は、建材や医薬品などの需要先にも影響を及ぼした。特に医薬品添加剤については供給への影響が懸念され、厚生労働省が関係機関に対応を通知する事態となった。

工場の現況 直江津工場は上越市頸城区西福島28番地1に位置する。敷地面積は約56万平方メートルで、日本海側の重要港湾である直江津港にも近い。

2020年代の主要生産品には、以下のようなものがある。

苛性ソーダ クロロメタン クロロシラン類 シリコーン製品 セルロース誘導体 合成性フェロモン 合成石英ガラス基板 フォトマスクブランクス フォトレジスト 5G向け低誘電材料

工場内では製造だけでなく、これら高機能材料に関する研究開発も行われている。また、自家発電設備として天然ガスを燃料とするガスタービン式コージェネレーションシステムを備え、発電時の熱を蒸気として製造工程などに利用している。

創業時に石灰石、電力、カーバイド、石灰窒素を基盤として成立した工場であるが、事業環境や技術の変化に応じて塩化ビニル、セルロース誘導体、シラン、合成石英、半導体露光材料などへ生産分野を転換・拡大してきたことが特徴となっている。

関連会社 直江津工場の周辺には、信越化学工業の関連会社が所在する。以下の会社は直江津工場そのものではなく、関連会社として記載する。

直江津電子工業 直江津電子工業株式会社は1969年(昭和44年)、信越化学工業と長野電子工業の共同出資によって設立された半導体シリコンウェーハ加工会社である。所在地は上越市頸城区城野腰596番地の2で、直江津工場の所在地(同区西福島28番地1)とは異なる。上越市の産業史資料では、信越化学のシリコン生産に伴うウェーハ製造部門として設立された企業として位置付けられている。

信越シリカ 信越シリカ株式会社は1998年(平成10年)に設立され、直江津工場と同じ上越市頸城区西福島に拠点を置く信越化学工業の完全子会社である。高純度合成石英の製造・加工、フォトレジストの評価・分析およびフォーミュレーション、フォトマスクブランクスの試験・検査など、直江津地区の半導体材料事業に関連する業務を行っている。

地域産業との関係 直江津周辺では近代以降、日本海側の港湾、鉄道、水力発電、天然資源などを背景として化学・金属工業の集積が進んだ。直江津工場もその主要な大規模工場の一つとなり、関連企業の設立や周辺産業の形成に関与した。

とりわけ戦後は、直江津電子工業をはじめとする関連企業が設立され、直江津地区における化学・電子材料産業の裾野が拡大した。信越化学工業自身も、直江津工場に製造設備だけでなく研究開発機能を置き、開発した製品を国内外の他拠点へ展開する体制を構築している。

半導体露光材料では、1997年に直江津工場で開始したフォトレジスト生産を起点として、福井県、台湾、さらに群馬県伊勢崎市へ生産拠点が拡大した。このため直江津工場は、信越化学工業の創業拠点であると同時に、同社の新規事業が生産・研究開発の蓄積を経て他地域へ展開していく拠点の一つとなっている。

年表 年 出来事 1926年 信濃電気と日本窒素肥料の共同出資により信越窒素肥料を設立 1927年 直江津工場が操業を開始。石灰窒素、カーバイドなどを生産 1931–1937年 経営不振により操業を休止し、工場の一部を他社に経営委任。1937年に自営操業を再開 1940年 信越窒素肥料が信越化学工業へ社名変更 1950年代後半 塩化ビニル、苛性ソーダなどの製造を開始 1962年 メトローズ(セルロース誘導体)の製造を開始 1973年 塩化ビニルモノマー製造設備で大規模爆発火災事故 1979年 ICマスク用合成石英基板の製造を開始 1985年 合成性フェロモン剤「ハマキコン」を出荷 1997年 KrF用フォトレジストの生産を開始 2007年 セルロース誘導体製造部門で爆発火災事故 2009年 フォトマスクブランクスを事業化 2024年 医薬用セルロースの増強投資を発表。半導体露光材料事業では伊勢崎市への新拠点建設を発表 2025年 直江津地区の医薬用セルロース製品倉庫の増強を発表

関連項目 信越化学工業 信越化学工業直江津工場爆発事故 信越化学工業直江津工場爆発事故 (2007年) 関川水系における水銀問題 直江津港 直江津 頸城区 フォトレジスト セルロース誘導体

脚注

外部リンク 国内生産拠点 - 信越化学工業 直江津工場 - 信越化学工業